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레벨업 가이드
레벨업어렵지않아요. “레벨업 하려면 뭐가 필요하나요?😮“ 첫번째, 누적접속일 운영자: “하루에 1포인트가 지급됩니다.😊” 사용자: “그래서 레벨2 만들려면 어떻게 해야하냐구요.” 운영자: “우선 10일을 꾸준히 접속하셔서 누적접속일을 10포인트를 달성하셔합니다.” 사용자: “왜 이렇게 만든거에요?.🤔” 운영자: “처음 사용하시는 분에게 더 많은 누적경험을 통해 원활하게 사용하도록 도입되었어요.😌” 두번째, 포인트 사용자: ” 포인트 지급해달라!” 운영자: “포인트는 메모(모두공유)와 버그제보(개선요청)만 하시면 손쉽게 받으실 수 있어요!” … Read more
시편 사이즈 가이드
[분석] 장비별 시편 사이즈 장비명 분석구분 분석항목 시편규격 IC 이온분석 이온,F–, Cl–, NO2–, Br–, NO3–, PO43-, SO42- 5ml 이상 BET 성분(이온)분석 표면적 Bulk: 10mm 미만, powder: 0.5~1g 이상 CIC 성분(이온)분석 이온,F–, Cl–, NO2–, Br–, NO3–, PO43-, SO42- 고체-100mg 이상,액체-5mL 이상 DIL(성적서x) 열분석 열팽창 1mm x10mm x25mm DIL(성적서0) 열분석 열팽창 Φ 5x 25mm (추천) DM(디지털현미경) 형상분석 … Read more
RBSC에 코팅된 CVD-SiC의 열특성은?
RBSC에 코팅된 CVD-SiC의 열특성은?
밀도 측정 가이드
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ATS_분석의뢰서 가이드
분석의뢰서 작성에 어려움이 있으신가요?
분석의뢰서 작성에 도움이 될만한 정보들을 준비했습니다. 언제든지 쉽고 간편하게 작성해보세요.
[반도체]Silicon etching mechanism(F)
반도체 공정에서 세정 다음으로 중요한 공정은 단연 에칭공정이다. 에칭은 다양한 패턴과 회로의직접도를 향상시키는 중추 기술이며 더욱더 세밀한 컨트롤을 요구하고 있습니다. <출처:https://www.skcareersjournal.com/194> 위와 같이 식각이란 산화막과 웨이퍼를 적절하게 화학적으로 제거하는 방법이다. 최근 반도체 공정들은 더욱더 미세한 패턴과 좁은 회로선 폭으로 인하여 건식식각 기술에 대한 도전이 심화되고 있습니다. 이에 사용되는 가스들에 대해서 알아봅시죠. 대표적인 F계열 가스 가스 … Read more
Si(Silicon)는 무엇인가?
Silicon의 어원 “Silicon”이라는 용어는 라틴어 단어 “silex”에서 비롯되었습니다. “Silex”는 “암석”이나 “천문석”을 의미합니다. Silicon 발견의 서막 때는 1808년 어느 한적한 영국. 한 사내가 엄청난 실험을 하고 있었다. 그의 이름은 ‘험프리 데이비'(Humphry Davy) 영국 화학계는 그를 주목하고 있었다. 바로 그가 산소를 독립적으로 발견한 인물이기 때문이다. 그의 즐거움 중에 하나는 전기 분해 였다. “아..전기 분해 고프다. 뭘 분해해 … Read more
ICP 전처리에 사용되는 산(acid)의 종류 및 특징
전처리할 때 사용되는 다양한 종류의 산이 있습니다. 이러한 산들은 특정 원소의 추출, 농도 증대 및 분석을 위해 사용됩니다. 주로 사용되는 산의 몇 가지는 다음과 같습니다 ICP 전처리 사용 대표산 7종 산(acid)종류 농도(%) 비중 끓는점(℃) 특징 HNO3(Nitric acid) 69~71 1.18 120 전체적인 사용 범위가 넓은 대표적인 산화성산(oxidizing acid),대다수의 금속, 유기물 분해에 범용적으로 사용됨 HCl(Hydrochloric acid) 35~40 … Read more