인류가 원자의 영역을 관찰한건 근 1세기가 된거같다.
그만큼 원자의 영역은 바로 이장비의 역활이 단연 큰 몫을 했다.
가늘게 집속된 이온빔을 시료표면에 주사하여 발생한 전자/이온을 검출하여
미세한 현미경 상을 관찰하거나 시료표면을 가공하는 용도로 사용하는 장비
장비명
FIB(Focused Ion Beam,이온 빔)
FEI Helios SEM/FIB
FIB 대표 분석물질
bulk시료
분석 할수 있는 것들
- 이온 빔 가소: 이온 빔을 사용하여 시료의 표면을 절삭하고 조각하는 데 사용됩니다. 이것은 나노 크기의 구조물을 만들거나 시료를 조작하는 데 유용합니다.
- 시료 조사 및 표면 분석: 이온 빔은 시료의 표면을 스캔하고 이미지를 획득하여 시료의 구조와 특성을 조사합니다. 이는 나노 스케일에서의 표면 형태 및 물질 특성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
- 물질 이동 및 형성: 이온 빔을 사용하여 시료 위에 다른 물질을 증착하거나 이동시키는 등의 작업을 수행하여 나노 스케일에서의 재료 조작을 할 수 있습니다.
- 회로 수정: 반도체 산업에서는 FIB가 미세한 회로 수정과 결함 수정에 사용됩니다. 회로 수리, 회로 연결, 및 시료 내 결함의 수정을 수행할 수 있습니다.
시편규격
| 구분 | 내용 |
| Bulk | 10mm x 10mm x 3mmm 이하 polishing 필수 시료채취 깊이 최대(10µm) 시편 접착면(측면,하단면) 평행 필요 |
장비이론
이온 가스의 종류
- Gallium (Ga): 대부분의 상용 FIB 장비는 이온 가속에 갈륨을 사용합니다. 갈륨 이온 빔은 물질을 조각하고 가공하는 데 사용됩니다. 갈륨은 이온 빔으로 조작할 때 뛰어난 가시성과 조절성을 제공하여 높은 해상도로 시료를 가공하는 데 유용합니다.
- Xenon (Xe): 최근 몇몇 혁신적인 FIB 시스템은 갈륨 대신 휴대용 또는 저전력 소비를 위해 자원 효율성이 높은 이온 가스로서 자외선을 사용하는 자외선 플러스(Xenon Plasma FIB)를 도입하고 있습니다. Xenon Plasma FIB는 일부 특정 응용 분야에서 높은 성능을 제공할 수 있습니다.
갈륨이 가장 흔하게 사용되고 있는 것으로 알려져 있습니다.
FIB wall
- carbon으로 시료를 보호하고 TEM 이송 샘플을 만들때 접촉 인자로 사용된다.